北京三和聯(lián)公司廠房
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歡迎訪問北京三和聯(lián)科技有限公司官網(wǎng)！北京三和聯(lián)是一家國內(nèi)自主研發(fā)干法刻蝕設備、離子束刻蝕機、等離子刻蝕機等半導體設備的廠商，“SHL”是三和聯(lián)創(chuàng)立的國產(chǎn)半導體設備品牌。
產(chǎn)品中心
國產(chǎn)半導體設備廠商
離子束刻蝕Ion Beam Etching - (IBE)
感應耦合等離子體刻蝕機臺 (ICP)
反應離子刻蝕機臺 (RIE)
桌面型等離子體刻蝕機 (SV-RIE)
電容耦合等離子體增強化學氣相沉積 (CCP-CVD)
爐管式化學氣相沉積(TFCVD)
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物理氣相沉積與刻蝕設備(IBSD)
物理氣相沉積機臺(PVD)
了解更多國產(chǎn)半導體設備 >>
行業(yè)應用
為您提供高端微納材料加工設備
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二維材料生長
北京三和聯(lián)堅持自主研發(fā)二維材料生長設備系列產(chǎn)品，國產(chǎn)二維材料生長機臺應用方向：WS2、MoS2二維材料 4 英寸晶圓級生長。該欄目為您展示二維材料生長機臺應用結果...
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二維材料刻蝕
北京三和聯(lián)致力于國產(chǎn)二維材料刻蝕設備研發(fā)與生產(chǎn)，三和聯(lián)是一家國內(nèi)二維電子薄膜材料刻蝕設備生產(chǎn)廠商。二維材料刻蝕機臺主要應用：1. 2D 材料減層刻蝕，制備單層 ....
失效分析
北京三和聯(lián)是中國國產(chǎn)失效分析設備廠商之一，該欄目向您展示國產(chǎn)反應離子刻蝕的功能，電感耦合等離子體刻蝕的功能，離子束刻蝕的功能及芯片失效分析刻蝕機臺應用等...
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Si基材料刻蝕
北京三和聯(lián)科技有限公司專注于國產(chǎn)Si基材料刻蝕系列產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)，是國內(nèi)堅持自主研發(fā)的二維材料刻蝕設備廠商之一。關于材料刻蝕方面的應用，包括國產(chǎn)Si基材料刻蝕...
三和聯(lián)半導體設備應用詳情 >>
技術文庫
技術指導與科研成果
北京三和聯(lián)科技有限公司—專注于國產(chǎn)干法刻蝕設備研發(fā)
在半導體制造核心環(huán)節(jié)中，干法刻蝕設備的地位舉足輕重。長期以來，高端市場被國際廠商主導，實現(xiàn)國產(chǎn)替代成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關鍵。北京三和聯(lián)科技有限公司，作為一家專注于自主研發(fā)的國內(nèi)品牌，正致力于打破這一格局。
半導體設備等離子體預處理/清洗機
半導體制造中的等離子體預處理是該工藝利用電離氣體清潔和活化表面，從而提高諸如引線鍵合和芯片貼裝等工藝的附著力和可靠性。三和聯(lián)自主研發(fā)“SHL”等離子體預處理/清洗機是國產(chǎn)優(yōu)質(zhì)品牌，歡迎您的咨詢與蒞臨考察。
國產(chǎn)爐管化學氣相沉積設備
爐管化學氣相沉積（CVD）系統(tǒng)利用管式爐，通過氣態(tài)前驅(qū)體的化學反應，在基材上沉積薄膜或涂層。北京三和聯(lián)是自主研發(fā)爐管化學氣相沉積設備廠商，SHL是國內(nèi)優(yōu)質(zhì)化學氣相沉積設備品牌。該工藝包括將基底置于管式爐內(nèi)加熱，并引入反應氣體，反應氣體在加熱的基底上分解形成固體薄膜。這些系統(tǒng)對于制備高性能材料（例如半導體、碳納米管和二維材料）至關重要。
離子束蝕刻和清洗
離子束清洗是一種將高能離子束導向基材以去除污染物的工藝。去除這些污染物可以增強附著力，并改善薄膜與基材之間的界面。 在離子束蝕刻中，離子的能量較大，能夠從基板表面濺射出材料。離子束蝕刻可用于減薄層或透過掩模定義特征。
電感耦合等離子體反應離子刻蝕（ICP RIE）
電感耦合等離子體反應離子刻蝕（ICP RIE）是一種先進的技術，旨在實現(xiàn)高刻蝕速率、高選擇性和低損傷加工。由于等離子體可在低壓下維持，因此還能提供出色的輪廓控制。
薄膜沉積設備
本文由北京三和聯(lián)向您講述半導體化學氣相沉積設備市場趨勢及標準外延工藝的薄膜沉積設備步驟。了解更多沉積設備請與我們?nèi)〉寐?lián)系：18910215538
蝕刻：SHL離子束蝕刻機
北京三和聯(lián)科技有限公司是一家離子蝕刻機制造商，我們研發(fā)的離子束蝕刻機是一款多功能離子蝕刻設備。如果您對我們的離子束蝕刻機有興趣請給我們致電：18910215538
等離子刻蝕機丨什么是等離子蝕刻或干蝕刻？
蝕刻是將一種材料從另一種材料表面去除的過程。北京三和聯(lián)自主研發(fā)的國產(chǎn)等離子蝕刻機經(jīng)過長期工藝驗證和客戶現(xiàn)場實際應用，在國內(nèi)積和國際累了大量有效工藝參數(shù)和經(jīng)驗。
金屬復合生長設備及金屬化合物刻蝕設備
金屬化合物刻蝕設備通常指的是在半導體制造、微電子、微機械系統(tǒng)（MEMS）以及精密零件加工等領域，用于精確去除金屬化合物薄膜或材料的專用設備。這些設備主要采用干法刻蝕（Dry Etching）或濕法刻蝕（Wet Etching）技術。 北京三和聯(lián)科技有限公司專注于國產(chǎn)金屬復合生長設備研發(fā)與生產(chǎn)的廠商，北京三和聯(lián)（“SHL”）是國內(nèi)金屬化合物刻蝕設備優(yōu)秀品牌。在材料生長設備領域，三和聯(lián)有著獨到的經(jīng)驗和技術。歡迎訪問我們的官網(wǎng)，了解更多國內(nèi)材料生長設備品牌相關信息。
硅基材料生長設備
什么是硅基材料刻蝕？ 本文將解答您關于該工藝的所有疑問，從所用設備到工藝本身。如果您仍然不確定，我們建議您閱讀不同類型的（干法）蝕刻知識，以便更好地理解整個工藝。
國產(chǎn)薄膜沉積設備
這些數(shù)量可以幫助確定對于給定的應用是否最好使用特定的技術。?北京三和聯(lián)科技有限公司是一家自主研發(fā)國產(chǎn)薄膜沉積設備的制造商。經(jīng)過長期工藝驗證和客戶現(xiàn)場實際應用，在國內(nèi)積和國際累了大量有效工藝參數(shù)和經(jīng)驗，并可實現(xiàn)硅深刻蝕。北京三和聯(lián)科技創(chuàng)國產(chǎn)薄膜沉積設備品牌，為國內(nèi)薄膜沉積設備刻助力！ 北京三和聯(lián)是一家薄膜沉積設備供應商。薄膜沉積框架的開發(fā)和生產(chǎn)是我們的主要業(yè)務之一。 我們是物理沉積（PVD：物理氣相沉積）方面的專家，無論是通過...
二維材料如何改變光刻和半導體制造
北京三和聯(lián)致力于二維電子薄膜材料沉積設備研發(fā)與生產(chǎn)，在二維材料刻蝕設備方面，三和聯(lián)一直堅持自主研發(fā)，聯(lián)系電話：18910215538 半導體行業(yè)正面臨一個關鍵時刻。隨著硅基技術不斷突破極限，尋找新材料以跟上創(chuàng)新步伐已變得至關重要。二維 (2D) 材料正是為此而 生——這類極薄的材料有望徹底改變電子學和其他領域。
二維電子薄膜材料刻蝕設備
北京三和聯(lián)一直致力于二維電子薄膜材料刻蝕設備的研發(fā)與國際市場份額開拓。作為國產(chǎn)干法刻蝕設備廠商，三和聯(lián)在反應離子蝕刻的逆襲之路上艱苦創(chuàng)業(yè)，堅持自主研發(fā)。聯(lián)系電話:18910215538
反應離子刻蝕機（RIE）在聚酰亞胺去除方面的介紹
北京三和聯(lián)科技在失效分析設備國產(chǎn)化的浪潮中堅持自主研發(fā)，為拓展國產(chǎn)反應離子刻蝕機（RIE）市場積極奉獻自己的力量。作為國產(chǎn)反應離子刻蝕機（RIE）廠商，北京三和聯(lián)科技有限公司在國產(chǎn)失效分析設備的國際市場開拓、代替壟斷品牌、降低國際價格及創(chuàng)建國產(chǎn)反應離子刻蝕機（RIE）品牌方面發(fā)揮了重要作用。
IC失效分析種靜電對電子元件的影響有哪些？
北京三和聯(lián)科技有限公司，專為失效分析實驗室研發(fā)反應離子刻蝕機FA-RIE系列產(chǎn)品，助力失效分析實驗室快速高效完成分析報告。北京三和聯(lián)專業(yè)從事國產(chǎn)IC失效分析設備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與售后服務。三和聯(lián)有超過十年國內(nèi)反應離子刻蝕機研發(fā)經(jīng)驗。失效分析實驗室是奠定半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基石，三和聯(lián)為您提供高效穩(wěn)定的FA-RIE系列產(chǎn)品。近年來北京三和聯(lián)公司研發(fā)部對失效分析實驗室的投資逐步加大，為國產(chǎn)IC失效分析設備品牌發(fā)展助力。
簡易了解反應離子刻蝕機（RIE）
在半導體行業(yè)中，芯片去層（Delayer）是一項至關重要的技術，廣泛應用于失效分析、逆向工程和工藝研發(fā)等領域。隨著芯片制造工藝的不斷進步，器件尺寸持續(xù)縮小，結構日益復雜，市場行業(yè)去層人員稀缺及上手培訓時間過長。 北京三和聯(lián)科技有限公司是一家自主研發(fā)國產(chǎn)反應離子刻蝕機廠商。經(jīng)過長期工藝驗證和客戶現(xiàn)場實際應用，在國內(nèi)積和國際累了大量有效工藝參數(shù)和經(jīng)驗，并可實現(xiàn)硅深刻蝕。北京三和聯(lián)科技創(chuàng)國產(chǎn)反應離子刻蝕機品牌，為國內(nèi)反應離子刻蝕機品牌?刻助力！
淺談反應離子刻蝕機（RIE）的干法刻蝕
北京三和聯(lián)科技有限公司是一家專注于國產(chǎn)干法刻蝕設備研發(fā)與生產(chǎn)的廠商，北京三和聯(lián)（“SHL”）是國內(nèi)干法刻蝕設備優(yōu)秀品牌。尤其在反應離子刻蝕設領域，三和聯(lián)有著獨到的經(jīng)驗和技術。歡迎訪問RIE設備廠商北京三和聯(lián)的官網(wǎng)，了解更多國產(chǎn)干法刻蝕設備更多信息
RIE的SEM樣品制備
北京三和聯(lián)科技有限公司專注于國產(chǎn)反應離子刻蝕機研發(fā)與生產(chǎn)的廠商，北京三和聯(lián)（“SHL”）是國內(nèi)反應離子刻蝕機優(yōu)秀品。在失效分析設備領域，三和聯(lián)有著獨到的經(jīng)驗和技術。歡迎訪問國產(chǎn)失效分析設備廠商北京三和聯(lián)的官網(wǎng)，了解更多國內(nèi)失效分析設備品牌相關信息。
國產(chǎn)刻蝕設備的崛起：替代浪潮背后的動力
北京三和聯(lián)科技在刻蝕設備國產(chǎn)化的浪潮中堅持自主研發(fā)，為拓展國產(chǎn)刻蝕設備市場積極奉獻自己的力量。作為國產(chǎn)刻蝕設備廠商，北京三和聯(lián)科技有限公司重點研發(fā)項目包括：國產(chǎn)二維電子薄膜材料刻蝕設備、國產(chǎn)二維材料刻蝕設備、國產(chǎn)干法刻蝕設備、國產(chǎn)硅基材料刻蝕設備、國產(chǎn)金屬化合物刻蝕設備等，在國產(chǎn)刻蝕設備的國際市場開拓、代替壟斷品牌、降低國際價格及創(chuàng)建國產(chǎn)刻蝕設備品牌方面發(fā)揮了重要作用。
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現(xiàn)代RIE反應離子刻蝕設備構成，精密工程的結晶
北京三和聯(lián)科技有限公司作為國內(nèi)推動干法刻蝕設備國產(chǎn)化中重要的一份子，在干法刻蝕設備國產(chǎn)化替代的浪潮中不斷開拓創(chuàng)新，打磨自身產(chǎn)品，為我國科研事業(yè)貢獻力量。RIE反應離子刻蝕設備，以其獨特的物理化學協(xié)同機制，實現(xiàn)了對半導體、MEMS、光電子器件等制造中多種材料的高精度、高各向異性圖案化加工。
設備的“血液”——RIE工藝氣體
北京三和聯(lián)科技有限公司反應離子刻蝕（RIE）設備支持H2、CH4、O2、N2、Ar、F6、CF4、CHF3、C4F8、NF3、Cl2、BCl3、HBr 9種工藝氣體，可以根據(jù)客戶的實際需求做定制化設計。工藝氣體的選擇是RIE工藝成功的關鍵?，直接影響刻蝕速率、選擇性、各向異性和表面形貌。
反應離子刻蝕RIE的核心原理——化學與物理的共鳴
北京三和聯(lián)公司是中國國產(chǎn)反應離子刻蝕（RIE）設備廠商之一，多年來堅持自主研發(fā)，產(chǎn)品包括爐管式化學氣相沉積、電容耦合等離子體增強化學氣相沉積及物理氣相沉積機臺等領域，為我國RIE反應離子刻蝕設備品牌國產(chǎn)化，打破國際壟斷助力。
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RIE設備的演進之路
北京三和聯(lián)多年以來專注于等離子體刻蝕機（RIE）國產(chǎn)化，中國離子束刻蝕機（IBE）品牌、市場開拓，自主研發(fā)國產(chǎn)刻蝕設備以及干法刻蝕設備國產(chǎn)品牌等方面的研發(fā)與生產(chǎn)，在離子刻蝕國產(chǎn)化及擴展中國離子刻蝕設備市場方面發(fā)揮著重要作用。
中國國產(chǎn)化RIE刻蝕設備的逆襲之路
北京三和聯(lián)一直致力于新型國產(chǎn)薄膜設備（LPCVD）的研發(fā)與國際市場份額開拓。作為中國國產(chǎn)刻蝕設備廠商，三和聯(lián)在中國國產(chǎn)化RIE刻蝕設備的逆襲之路上艱苦創(chuàng)業(yè)，堅持自主研發(fā)，為中國國產(chǎn)半導體設備的發(fā)展做出了貢獻。為新型國產(chǎn)薄膜設備（LPCVD）市場份額開拓提供了強大支持。
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RIE刻蝕設備-從美國壟斷到中國國產(chǎn)化的前期背景
歡迎訪問北京三和聯(lián)官網(wǎng)，三和聯(lián)是一家國產(chǎn)化RIE刻蝕設備公司，是一家國內(nèi)干法刻蝕設備廠商。我們的RIE設備型號可分為3個，針對失效分析的客戶需求，研發(fā)了專用設備。三和聯(lián)為國產(chǎn)化品牌刻蝕設備助力。
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關于三和聯(lián)
技術團隊
公司定位：北京三和聯(lián)科技有限公司位于北京，面向研究所高校及創(chuàng)新型公司提供高端國產(chǎn)微納材料加工設備。公司自主研發(fā)國產(chǎn)半導體設備，基于在真空、材料以及半導體設備方面的技術累計，向客戶提供先進材料刻蝕、生長與表面處理設備及服務，提高客戶技術水平、生產(chǎn)效率與競爭力；產(chǎn)品涵蓋硅基材料、化合物半導體材料、以及二維薄膜材料應用方向。
技術團隊：10人技術團隊，均擁有十年以上的半導體/真空/等離子方面的從業(yè)經(jīng)驗。已搭建微納工藝demo實驗平臺，包括：材料表面等離子體改性機臺、RIE刻蝕機臺、ICP刻蝕機臺、PECVD化學氣相沉積機臺、PVD物理氣相沉積機臺以及IBE離子束刻蝕機臺，其中核心工藝機臺全部是自研生產(chǎn)的國產(chǎn)設備。
三和聯(lián)科研團隊辦公室- 三和聯(lián)產(chǎn)品實驗室
國產(chǎn)二維材料生長機臺應用展示
Si基材料刻蝕
產(chǎn)品板塊：三和聯(lián)是一家自主研發(fā)及生產(chǎn)的國產(chǎn)半導體設備廠商。我們的產(chǎn)品涵蓋：干法刻蝕、化學氣相沉積、物理氣相沉積、表面處理及輔件五大板塊。目前面向市場的成熟設備及技術包括：離子束刻蝕、感應耦合等離子體刻蝕機臺、反應離子刻蝕機臺、桌面型等離子體刻蝕機、電容耦合等離子體增強化學氣相沉積、爐管式化學氣相沉積、物理氣相沉積機臺、等離子體預處理/清洗機、冷水機 等。
聯(lián)系方式：北京三和聯(lián)可最大限度支持為您量身打造更適合您的設備，如您有需求或興趣請致電：18910215538（7*24H值班經(jīng)理）。
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北京三和聯(lián)科技有限公司是一家研發(fā)國產(chǎn)半導體設備的廠商，重點產(chǎn)品包括：等離子體刻蝕機（RIE）丨離子束刻蝕機（IBE）丨干法刻蝕設備丨感應耦合等離子體刻蝕機（ICP）丨國產(chǎn)沉積設備等。三和聯(lián)是一家自主研發(fā)及生產(chǎn)的國產(chǎn)半導體設備廠商。我們的產(chǎn)品涵蓋：干法刻蝕、化學氣相沉積、物理氣相沉積、表面處理及輔件五大板塊。
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